攀登勇者网络配资，志在巅峰
上海 2024年8月2日 /美通社/ -- 中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称"中微公司"，上交所股票代码：688012）今日迎来成立20周年纪念日，并于临港产业化基地隆重举行"20周年盛会华章暨临港基地落成庆典"。上海市委常委、临港新片区党工委书记、管委会主任陈金山等各级相关政府领导、行业合作伙伴、股东代表等约800人出席活动，共同见证了这一具有深远意义的重要时刻。临港产业化基地的正式投入使用，为中微公司风华正茂二十载的发展历程再添辉煌一笔，为未来的加速发展注入新的活力和动力, 也为不断攀登巅峰的征程开启了新篇章。
中微公司董事长、总经理尹志尧博士致辞
庆典活动上，政府领导代表、中微公司创始人、董事长兼总经理尹志尧博士携公司初创团队成员共同按下启动装置，宣布临港产业化基地正式启用。临港产业化基地占地约157亩、总建筑面积约18万平方米，配备行业领先的实验室、业界高标准的洁净室、先进的生产车间及智能化立体仓库等设施，可实现生产全程数字化、智能化管理，从而为公司进一步强化生产能力、研发能力和科技创新水平提供了有力支撑。
中微公司临港产业化基地启用仪式
"屹立在世界的东方，迎着初升的太阳，攀登勇者的梦想，志在巅峰的殿堂……"庆典活动在为中微公司20周年特别创作的《中微之歌》中拉开序幕。"芯片越做越小，我们越战越强"，这首《中微之歌》由尹志尧博士亲自担任制作人，著名作曲家安栋教授作曲，金牌作词人甘世佳作词，旋律慷慨激昂，铿锵有力，不仅承载着中微人"攀登勇者，志在巅峰"的理想和追求，也唱出了所有科创人的心声和梦想。
在庆典上，中微公司创始人、董事长兼总经理尹志尧博士发表讲话，他表示："20年前，我们从一张白纸，筹划实现高端芯片设备的宏伟梦想。我们一次次冲破险阻而立于不败之地，这一切都源自我们‘攀登勇者，志在巅峰'的雄心壮志和‘自强不息，厚德载物'的团队奋斗精神！这一切都来源于我们所认同的和我们所遵循的‘四个十大'，这包括：产品开发的十大原则，战略销售的十大准则，营运管理的十大章法和精神文化的十大作风。今天，我们的心中充满了感激。我们所从事的半导体微观加工设备的产业，是数码产业基石，我们选择的是打造‘国之重器'这条艰难的道路。中微公司上下一心，用技术的创新，产品的差异化和知识产权的保护，攻克了一个又一个的技术难关，用优质过硬的产品获得了市场认可，用高效完善的服务赢得了客户信赖。回首过往的二十年，我们实现了从一到十的进展。展望下一个二十年，我们要实现十到一百的跨越！"
庆典仪式结束后，与会嘉宾们参观了临港产业化基地的多媒体展厅、研发与生产洁净室、智能仓储等生产区域以及员工宿舍、泳池、健身中心等生活区域，并对基地内的各种软硬件设施表示了高度赞赏。临港产业化基地采用先进厂务管理系统，配备智能化立体仓库，实现了对制造资源跟踪、生产过程监控。智能制造信息化平台的搭建，让中微公司大幅提高了生产质量、生产效率，降低了生产成本，为保证全球客户供应打下坚实基础。临港产业化基地践行绿色发展理念，致力打造绿色工厂，并通过不断探索实践，积极应对气候变化，助力公司2035年实现自身碳中和的目标。
中微公司临港产业化基地
砥砺奋进，追求卓越
回顾中微公司二十年发展历程，从2004年一张白纸开始的初创公司，成长为2019年首批科创板上市企业；从当初一支仅有15人的创业团队，逐渐成长为如今全球员工超过两千人的规模；从张江高科技园区内一间不起眼的办公室，逐步发展为厂房和办公楼面积即将达到45万平方米的规模；从起步阶段在技术领域不断探索尝试，到拥有两千余项授权专利、技术能力；从2007年首台刻蚀设备、薄膜设备研制成功并运往国内客户，到2024年公司累计已有超5000个反应台在国内外130多条生产线实现量产和大规模重复性销售，中微公司在二十年坚韧不拔的发展过程中，持续追求技术创新和卓越运营，深刻诠释了"攀登勇者，志在巅峰"的中微精神。
二十年来，中微公司在不断攀登高峰的路上成果颇丰。公司在科学技术、客户满意度、知识产权、质量认证等领域获得众多赞誉，累计荣获百余项知名奖项。在美国TechInsights全球客户满意度调查中，中微公司连续多年排名位居前列。2023年，公司荣获"上海市科技进步一等奖"，并还多次入选福布斯中国最具创新力企业50强榜单。公司高度重视技术创新与知识产权保护，在产品开发过程中始终坚持"为技术的创新、设备的差异化和IP保护而开发"的企业文化。截至2024年6月，公司累计申请专利已达2648项，已获授权专利1670项，其中发明专利占比高达85.87%。此外，公司两次荣获"中国专利金奖"，多次荣获"中国专利优秀奖"、"上海市发明创造专利奖"和"上海市知识产权创新奖"等奖项。如今，中微公司已成为中国国内半导体设备的领先企业，也是国际半导体设备产业冉冉升起的一颗新星。
创新驱动，持续攀登
正是基于这样的创新能力，中微公司在刻蚀设备、薄膜沉积设备、MOCVD设备等领域均取得了显著成就。在刻蚀设备方面，凭借行业首创的刻蚀设备双台机技术，中微公司率先提出"皮米级"加工精度概念，其刻蚀精度已经达到100"皮米"以下水平，相当于头发丝350万分之一的精准度，并且产品具备刻蚀应用覆盖丰富等优势，能够满足90%以上的刻蚀应用需求，技术能力已覆盖5纳米及以下更先进水平。中微公司刻蚀设备市场占有率持续提升，不断收到领先客户的批量订单。
中微公司持续加码创新研发，在半导体薄膜沉积设备领域也不断突破，推出了Preforma Uniflex® CW、Preforma Uniflex® HW、Preforma Uniflex® AW等多款新产品以满足市场需求，为公司业务多元化发展提供了强劲的增长动能。此外，公司新开发的硅和锗硅外延EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多款新产品，也会在近期投入市场验证。
在MOCVD设备方面，中微公司自推出第一代MOCVD设备PRISMO A7®以来，不断丰富产品线且快速升级迭代，目前在Mini LED等氮化镓基设备领域，中微公司的市场占有率稳居前列，并持续开发用于氮化镓、碳化硅等功率器件及Micro-LED器件制造的MOCVD设备。此外，中微公司还通过投资布局了第四大设备市场——光学检测设备。
在集成电路产业飞速发展的浪潮中，中微公司以高端半导体设备为核心，坚持技术的创新、产品的差异化和知识产权的保护，不断开发具有市场竞争力的设备；同时，中微公司将整合产业链上下游和相关资源作为另一发力点，积极考虑投资和并购，推动公司更快发展。预计未来五到十年，中微公司将通过自主研发以及携手行业合作伙伴，覆盖集成电路关键领域50%至60%的设备。
夯实根基，蓄势发力
随着临港产业化基地的全面投入使用，中微公司的未来发展蓝图正徐徐展开。2023年7月，14万平方米的中微公司南昌生产研发基地落成并投入使用；目前，位于滴水湖畔的中微临港总部暨研发大楼也正在建设中，建成后占地面积约10万平方米。未来，中微公司的生产和研发基地总面积将达到约45万平方米，为今后的大发展夯实基础。
此外，中微公司也在全球多点布局，汇聚研发势能。目前，中微公司的客户遍布中国大陆和中国台湾、新加坡、韩国、德国、意大利等10多个国家和地区，在全球范围内拥有2000多名员工，其中研发人员占比接近半数。
展望未来，中微公司将继续秉持"攀登勇者，志在巅峰"的精神，践行"四个十大"的企业文化，深入推进三维发展战略，持续提升综合竞争力，在技术进步、业务发展、业绩增长、规范治理等方面不断提高水平，实现高速、稳定、健康和安全的发展，为客户和市场提供性能优越、高生产效率和高性价比的设备解决方案，为全球半导体行业的发展做出更大的贡献。
关于中微半导体设备（上海）股份有限公司
中微半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称：中微公司网络配资，证券代码：688012，英文简称：AMEC）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户先进工艺的众多刻蚀应用，中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据优势地位。
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